シリコンパッドの使用原理

熱伝導性シリコンパッドは、放熱接着剤の市場で開発された新製品です。 熱源の表面とヒートシンクの接触面の間に発生する接触熱抵抗を低減するために、主にシリコーンで作られています。 ギャップを使用して熱を伝達し、発熱部分と熱放散部分の間の熱伝達を完了するように特別に設計されています。 優れた熱伝導性フィラー材料です。 熱伝導性シリコーンパッドの応用分野も非常に広範囲です。 機械であれば、ブレーキをかけると発熱します。 この熱伝導性シリコンパッドは、主に精密機械用に開発されています。 科学技術の進歩において、従来の熱放散接着剤は、精密機器の現在の熱放散要件をもはや満たすことができません。

熱伝導性シリコーンパッドを選択する主な目的は、熱源の表面とヒートシンクの接触面の間に発生する接触熱抵抗を減らすことです。 熱伝導性シリコンパッドは、接触面の隙間を非常によく埋め、空気を接触面から押し出すこともできます。 空気は熱の悪い伝導体であり、接触面間の熱伝達を著しく妨げます。 熱伝導性シリコンパッドを追加することで、接触面をより良く完全に接触させ、真に対面接触させることができます。 温度での反応は、可能な限り最小の温度差を達成することができます。 熱伝導性シリコンパッドの熱伝導率は相対的です。 柔軟な材料でより良い熱伝導率を持っていますが、それは一般的に0.6-1の範囲です。 5W /（m・K）。 パフォーマンスは高くなる可能性がありますが、2W /（m・K）を超えるものはありません。

 

実際、熱伝導性シリコンパッドは現在、さまざまな電子機器の加熱体（パワーチューブ、サイリスタ、電気パイルなど）と放熱設備（ヒートシンク、ヒートシンク、シェルなど）の間の接触に広く使用されています。製品および電気機器表面は、熱伝達媒体および湿気、ほこり、腐食、衝撃および他の性能の役割を果たします。 マイクロ波通信、マイクロ波伝送装置、マイクロ波特殊電源、安定化電源など、さまざまなマイクロ波機器の放熱処理に適しています。

従来の方法で開発された熱伝導性シリコーンパッドには、大きな市場展望があります。 熱伝導性シリコンパッドもハイエンドの熱伝導性コンパウンドであり、固化または伝導性はありません。 回路の短絡などのリスクを回避できます。 その高い接着性能と超熱伝導率は、現在CPU、GPU、ヒートシンクです。接触時の優れた熱伝導率ソリューション。