Essendo uno dei campi della produzione di precisione, la preparazione della pellicola ottica ha un grado di precisione che spesso raggiunge il livello dei nanometri o addirittura dei nanometri. Pertanto, la complessità della sua preparazione è evidente. A volte piccoli errori portano alla perdita dell'intero mercato. Porta grandi difficoltà.

The preparation of optical film is a complicated process. It is obtained by evaporating or sputtering a large solid material, passing through the gas phase, and finally condensing on the substrate. In the preparation process, it includes environmental vacuum conditions (vacuum degree), The influence of multi-faceted process factors such as evaporation rate and substrate temperature has a large deviation from the ideal state of the microstructure and chemical composition of the film, which ultimately leads to changes in the film's mechanical properties, laser damage threshold, and optical properties.

Among the many process influencing factors, the most influential and easily observable is the thickness uniformity of the film, which will seriously affect the physical properties of the film. According to the preparation experience, the uneven thickness of the film will cause a large shift in the spectral performance of the film For example, during the preparation of the AR coating, the transmittance of the film will be low. Secondly, it will also affect the laser damage threshold of the film, the film stress, etc., as the article said: the difference is a thousand cents, and thousands of miles . Therefore, the film preparation equipment is often equipped with a highly accurate film thickness monitoring system.

L'irregolarità dello spessore dello strato di film farà cambiare la lunghezza d'onda caratteristica del dispositivo a film sottile e spesso non c'è alcun impatto inevitabile su altre proprietà, e l'errore complessivo dello strato di film farà sì che le prestazioni del film sottile a diminuire.

Quindi, come controllare meglio il processo di preparazione, lo riassumo in tre aspetti: attrezzatura di preparazione, preparazione del substrato e monitoraggio.

Fattori che influenzano l'uniformità del film

La maschera si riferisce alla maschera del substrato, che è uno strumento per posizionare il substrato. È un dispositivo indispensabile nelle apparecchiature di rivestimento. Poiché le molecole di vapore verranno eventualmente depositate sul substrato, l'apparecchiatura ha un effetto sull'uniformità del film.

L'influenza della maschera

Un uso appropriato delle maschere può correggere la distribuzione dello spessore del film. Una maschera statica viene posizionata davanti al substrato rotante lungo un unico asse di rotazione e la distribuzione radiale dello spessore del film viene corretta tagliando la maschera. La dimensione della maschera con la forma corretta può essere approssimata mediante calcoli teorici e quindi modificata in base ai risultati sperimentali per determinarne la forma finale.

Influenza basale

The substrate must be cleaned before coating. The short-range interatomic and intermolecular forces can make the film and the substrate together. This force is very strong. Therefore, in the bonding process of the substrate and the film, the conditions of the substrate surface are very important, It is a very small monolayer of contaminants on the surface of the substrate, which will also change the adhesion force on the order of several sizes. The adhesion of the evaporate is also very sensitive to the surface conditions, and the surface conditions can completely change the subsequent film The nature of the substrate cleaning can make the evaporation material adhere to the surface of the substrate, rather than the intermediate layer of contaminants.

After the substrate is cleaned, it should be put into the coating room as soon as possible, and then use glow discharge to do the last cleaning before coating, usually 5 to 10 minutes, the discharge equipment uses a high-voltage DC power supply (of course, there is also AC), at an appropriate pressure A glow discharge occurs underneath. During glow discharge, the surface of the substrate is bombarded with positive ions, effectively removing all light and thin residues. Most coating machines have used it as standard equipment. In addition, it should be noted that the time interval between stopping the discharge and starting to plate the first film should not exceed 3 minutes. Otherwise it will seriously affect the performance of the film, especially the adhesion between the film and the substrate will deteriorate.